簡(jiǎn)要描述:低真空CVD石墨烯生長(cháng)系統是由1200度開(kāi)啟式管式爐、精密的質(zhì)量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。
產(chǎn)品分類(lèi)
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品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
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應用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
石墨烯生長(cháng)系統主要特點(diǎn):該設備是由1200度開(kāi)啟式管式爐、精密的質(zhì)量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。
1.石墨烯生長(cháng)系統加熱系統
最高溫度 | 1200℃ |
使用溫度 | ≤1100℃ |
石英管尺寸 | Φ25/φ50/φ60/Φ80/φ100*1000mm |
爐膛材料 | 氧化鋁、高溫纖維制品 |
熱電偶類(lèi)型 | K型熱電偶 |
控溫精度 | ±1℃ |
控溫方式 | 30段可編程控溫,PID參數自整定。 |
加熱長(cháng)度 | 440mm |
恒溫區長(cháng)度 | 200mm |
加熱原件 | 電阻絲 |
供電電源 | 單相,220V,50Hz |
2、三路質(zhì)子流量控制系統
連接頭類(lèi)型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
標準量程(N2) | 200sccm,500sccm、1000sccm(可根據用戶(hù)要求定制) |
準確度 | ±1.5%F.S |
線(xiàn)性 | ±1%F.S |
重復精度 | ±0.2%F.S |
響應時(shí)間 | 氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec |
工作壓差范圍 | 0.1~0.5 MPa |
最大壓力 | 3MPa |
接口 | Φ6,1/4'' |
顯示 | 4位數字顯示 |
工作環(huán)境溫度 | 5~45高純氣體 |
壓力真空表 | -0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止閥 | Φ6 |
內外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
3、低真空機組
空氣相對濕度 | ≤85% |
工作環(huán)境 | 5℃~40℃ |
工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
功率 | 1KW |
抽氣速率 | 10m3/h |
極限真空 | 5X10-1Pa |
工作壓力范圍 | 1.01325X105~1.33X10-2Pa |
耐壓值 | 0.03MPa |
容油量 | 1.1L |
進(jìn)氣口口徑 | KF25 |
排氣口口徑 | KF25 |
噪音 | 50dB |
連接方式 | 采用波紋管,手動(dòng)擋板閥與波紋管相連 |
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