1. 主要用途：

該款設備是全自動(dòng)Plasma增強CVD系統（PECVD），連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以低壓條件下實(shí)現工藝，PECVD系統

能使整個(gè)實(shí)驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區，輝光相對均勻等效，很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉

料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進(jìn)出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經(jīng)過(guò)的管道都選用非金屬材質(zhì)，如：進(jìn)出料腔體選用石

英材質(zhì)，推料桿選用石英及聚四氟材質(zhì)。

2.結構與原理圖：

                                             結構圖

設備組成：加熱系統，Plasma系統，進(jìn)料系統，出料系統，氣體控制系統，低真空系統，氣料分離系統，過(guò)濾系統，爐管轉動(dòng)系統，電控操作系統。

（1）加熱系統：

該加熱系統的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于科研單位的材料工藝研

究。加熱元件選用電阻絲加熱，適合中低溫度加熱系統。

高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經(jīng)典的閉環(huán)負反饋控制系統，控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電

壓大電流控制，從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命，測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數，無(wú)須操作人員的干預，可

自行根據不同溫度曲線(xiàn)的升、降溫要求調整輸出信號，同時(shí)系統設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經(jīng)驗的要求。

（2）Plasma系統：

本系統借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中，電子密度高，通過(guò)反應氣態(tài)放電，有效利用了非平衡等離子體的反應特征，從根

本上改變了反應體系的能量供給方式。

（3）進(jìn)料系統：

送料系統速度連續可調，停止送料且爐體傾斜大時(shí)，物料不會(huì )從送料系統外漏，送料系統方便拆卸，拆卸后可手動(dòng)加料，設備可正常運行。

（4）出料系統：

出料系統在爐體傾斜出料時(shí)可自動(dòng)出料。

（5）氣體控制系統：

該控氣系統是可以控制兩種氣體按照不同流量進(jìn)行混合配比的，也可以獨立控制，質(zhì)量流量計安裝于密封的可移動(dòng)的機柜內，由超潔雙拋不銹

鋼管與精密雙卡套接頭連接組成。

（6）低真空系統：

該系統配備真空機械泵，可以抽真空，可以讓設備在真空環(huán)境下進(jìn)行反應。

（7）氣料分離系統：

該系統可以讓設備在充氣體保護或者抽真空時(shí)，實(shí)現氣體與物料的分離。

（8）過(guò)濾系統：

該系統可防止物料進(jìn)入真空泵，保證真空泵的正常運行。

（9）爐管轉動(dòng)系統：

爐管轉動(dòng)系統可以讓爐管360°勻速轉動(dòng)，轉速在0-60r/min連續可調，且能在60r/min轉速下長(cháng)時(shí)間運行。

3.技術(shù)指標：

（1）該設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻；

（2）整個(gè)爐子和送料、收料系統能夠一起傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間可調；

（3）送料系統送料速度連續可調，停止送料且爐體大傾斜時(shí)，物料不從送料系統外漏。送料系統方便拆卸，拆卸之后可以手動(dòng)加料，設備可

正常運行。

（4）爐管回轉穩定，不會(huì )上下左右跳動(dòng)；轉速在0~60r/min連續可調，能在60r/min轉速下連續*運轉(>24h)。

（5）爐子轉速，加料速度，傾斜角度，真空度，氣體流量，溫度，運行時(shí)間，等離子體功率等參數都用數字顯示，并在運行過(guò)程記錄設備整個(gè)

運行軌跡及上述參數（在工控及獨立電腦上均能實(shí)現）；

（6）設備運行可分為手動(dòng)模式與自動(dòng)模式；自動(dòng)模式下可實(shí)現高度自動(dòng)化運行，所有參數程序設定好后自動(dòng)運行：可實(shí)現按照設定程序連續工

作，可設置多工作段不同參數，并可進(jìn)行某工作段循環(huán)工作及某程序循環(huán)工作；