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    型號：BTF-1200C-R-PECVD

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    臺面式等離子體增強真空回轉爐BTF-1200C-R-PECVD，該設備是全自動(dòng)Plasma增強PECVD系統，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以低壓條件下進(jìn)行實(shí)驗，PECVD系統能使整個(gè)實(shí)驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區，輝光相對均勻等效，有效的解決了傳統等離子工作不穩定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻。
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    等離子體增強回轉PECVD系統 主要特點(diǎn) 我司研制的回轉PECVD系統能使整個(gè)實(shí)驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。
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