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微型PECVD系統本設備主要針對實(shí)驗中試石墨烯生長(cháng)和制備使用，同時(shí)該設備可以用于碳納米管的生長(cháng)?？芍苽涑龈哔|(zhì)量的透明導電膜,用作手機觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領(lǐng)域。

多通道管式集成設備BTF-1200C-6D為我司研發(fā)的新一代產(chǎn)品，將6臺管式氣氛爐集成與一體，且又能獨立控制，可同時(shí)進(jìn)行平行試驗;頂上二組管式爐可半蓋開(kāi)啟，可透過(guò)石英管直接觀(guān)察樣品燒結時(shí)的狀態(tài);整機液...

本款有機小分子提純（升華儀）主要用途是在真空條件下對有機混合物進(jìn)行升華達到純化的目的（即蒸發(fā)后重結晶），主要處理的對象為具有升華性的有機材料，或具有流動(dòng)相特性混合物如有機聲光產(chǎn)品（如有機發(fā)光顯示器用的...

ZMF-1700C-H2高溫氣氛箱式爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以鉬 絲作為加熱元件，爐門(mén)、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門(mén)配備水冷系統。爐體上有進(jìn)氣口、出氣口、抽真空口，以保證儀器工作時(shí)的密封性能。...

實(shí)驗室高溫箱式爐采用優(yōu)質(zhì)U型硅棒加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30段升溫曲線(xiàn)、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。

低真空CVD石墨烯生長(cháng)系統是由1200度開(kāi)啟式管式爐、精密的質(zhì)量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。

迷你型CVD系統控溫方式：模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能

BTF-1700C-CVD1700度高溫CVD系統 （高真空 低真空可選）是由1700度管式爐、三路質(zhì)量流量計系統以及國產(chǎn)高真空系統（或選配低真空系統）所組成。

此款立式管式爐法蘭可上下多檔移動(dòng)，法蘭上的特殊設計方便掛燒樣件，實(shí)現真空或氣氛下的淬火實(shí)驗，廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門(mén)。

雙溫區管式爐廣泛應用于CVD實(shí)驗，熒光粉制備，真空或氣氛燒結，基片鍍膜等實(shí)驗環(huán)境。技術(shù)成熟，質(zhì)量可靠，溫場(chǎng)均勻，結構合理。

1750℃ 高溫硅鉬棒加熱管式爐的爐體采用雙層風(fēng)冷機構，爐子燒到最高溫度時(shí)，殼體表面溫度低于60度。